このたび日本総販売代理店である株式会社ティービーアイ様の協力のもと、「ALD / ALE・先端プラズマプロセス装置」の取扱いを開始いたしました。

本製品群は、ALD（Atomic Layer Deposition：原子層堆積）およびALE（Atomic Layer Etching：原子層エッチング）をはじめ、先端プラズマプロセスを用いた薄膜形成・表面処理・エッチングなどの研究開発に対応する装置です。

ナノスケールでの膜厚制御や高い均一性が求められる先端材料・半導体プロセスの研究開発に対応し、研究テーマやプロセス条件に合わせた装置構成についてもご相談いただけます。

大学・研究機関／半導体・電子材料メーカー／企業R&D部門における、新材料・次世代半導体・先端デバイスなどの研究開発用途にご活用いただけます。

株式会社ティービーアイとの連携により、装置のご紹介から仕様検討、導入に向けたご相談まで、日本国内のお客様をサポートしてまいります。

ALD / ALEおよび先端プラズマプロセスを活用した研究開発設備をご検討のお客様は、ぜひ製品情報をご覧ください。
　https://www.ncpl.co.jp/list.php?c_id=55