ALD / ALE・先端プラズマプロセス装置

Os Corporationは、次世代半導体・ディスプレイ産業に向け、 薄膜形成、原子層プロセス、プラズマプロセス、極低温プロセスなどの 研究開発用真空装置を開発・製造しています。

製品の企画・設計・製造から技術支援まで、 研究テーマや要求仕様に応じた トータルエンジニアリングソリューション を提供します。

ALD / ALE 原子層プロセス装置

原子レベルで薄膜の形成やエッチングを制御する ALD（原子層堆積）／ALE（原子層エッチング）プロセス装置です。
高精度・高均一性・低ダメージが求められる 半導体、電子材料、ディスプレイ、新材料などの研究開発に利用できます。

CVD 薄膜蒸着装置

化学反応を利用して基板表面に薄膜を形成する CVD（Chemical Vapor Deposition）装置です。
半導体・電子材料・ディスプレイ分野をはじめ、 酸化物・窒化物・金属薄膜などの形成プロセス研究に利用できます。

プラズマ積層装置

プラズマを利用して対象物の表面に薄膜を形成するプロセス装置です。
低温での薄膜形成をはじめ、 ナノコーティング、バイオ素材、光学応用、機械部品など、 幅広い研究・開発用途への応用が可能です。

極低温エッチング装置

次世代半導体プロセスにおける 高アスペクト比（HAR）加工などの研究を目的とした 極低温エッチングプロセス装置です。
高度な微細加工、低ダメージ加工、新しいエッチング条件の評価など、 次世代デバイス向けプロセス研究をサポートします。

Precular™ キャニスタークーラー

プリカーサー（前駆体）を安定した低温環境で保持するための キャニスター冷却装置です。
高価なプリカーサーや温度管理を必要とする材料を使用する ALD・CVDなどの研究プロセスをサポートします。

各種研究・実験用プロセス装置

企業、大学、研究機関向けに、 研究テーマや実験内容に合わせた各種プロセス装置の開発に対応しています。
研究用途に合わせた治具、真空装置、エンジニアリング、 設計・制御などについてもご相談いただけます。

大学・研究機関／半導体・電子材料メーカー／企業R&D向け

既製の装置仕様から選択するだけではなく、 研究テーマ・対象材料・プロセス条件に合わせて装置構成を検討できる ことがOs Corporationの研究開発用装置の特徴です。

• 薄膜形成・新材料・成膜プロセス研究
• ALD / ALEによる原子層プロセス研究
• 低ダメージエッチング・微細加工プロセス研究
• 極低温環境を利用した次世代エッチング研究
• プラズマを利用した薄膜形成・表面処理研究
• 複数プロセスを組み合わせた一貫プロセス研究
• 新しい材料・プリカーサーを使用したプロセス評価

研究開発テーマからご相談ください

具体的な装置仕様が決まっていない段階でもご相談いただけます。

• 「新しい材料でALDプロセスを検討したい」
• 「Plasma ALEによる低ダメージ加工を評価したい」
• 「新しいCVD成膜条件を研究したい」
• 「極低温環境でのエッチングを評価したい」
• 「既存装置では実現できないプロセス条件を試したい」
• 「複数工程を一つのシステムで研究したい」

研究テーマ・対象材料・プロセス内容をお聞きした上で、 メーカーと装置構成を検討します。

製品案内・カタログ

ALD / ALE・先端プラズマプロセス装置の概要、対応プロセス、
研究開発向け装置ラインアップをまとめた製品案内をご覧いただけます。

製品案内

装置選定・仕様についてお気軽にご相談ください

ALD / ALE / CVD / プラズマプロセス / 極低温エッチングなど、
研究テーマ・対象材料・プロセス条件に応じて装置構成を検討します。

製造元：Os Corporation
日本総販売代理店：株式会社ティービーアイ
販売店：ネットコネクトプロ合同会社